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| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工 |
OptoNano超分辨光學顯微系統，是以 PHAOS Optical Microsphere Nanoscopy (OMN)研制的超分辨物鏡與操作系統,結合常規光學顯微鏡平臺開發制造的面向材料科學與工業應用的超分辨光學顯微鏡。
以 USAF 1951 標準(MIL-STD-150A) 分辨率標尺驗證，配置 ONLENS-G2 超分辨物鏡系統，可實現在環境空氣中137 納米的分辨率成像。
OptoNano200做為緊湊結構設計的通用機型，ON200配置透射光與 X/Y 6.5mm行程的載物臺，兼顧適用部分需要 透射光觀察的樣品。
ON200+在 ON200基礎上，配置 X/Y 35mm行程的載物臺，并擴展了可置樣品高度到 30mm。
ON200/ON200+載物臺與物鏡觀察單元（Z軸）都由超高精度(1 μm/全程, 微進細分 1/250 Steps）電動驅動控制。
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